近日
,在麗水舉行的第七屆國際先進光刻技術研討會上
,來自國內外相關領域的專家學者、知名企業(yè)家齊聚一堂
,共話行業(yè)發(fā)展趨勢
、前沿成果及創(chuàng)新靈感,為麗水半導體產(chǎn)業(yè)迸發(fā)新的活力帶來全新機遇
。
本次研討會由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟
、中國光學學會主辦,中國科學院微電子研究所和麗水經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)管理委員會承辦
,浙江省國資運營公司下屬浙江富浙資本管理有限公司等協(xié)辦
。
當下,集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為備受關注的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)
,在政策和資本的推動下蓬勃發(fā)展
。基于這個背景
,國際先進光刻技術研討會應運而生
,為國內外半導體業(yè)界人員提供了一個重要的交流平臺。會上
,相關知名公司
、機構、高校的嘉賓
,圍繞材料
、設備、工藝、測量
、計算光刻和設計優(yōu)化等領域主題
,深入交流分享各自的研究成果,共同探討未來行業(yè)發(fā)展趨勢及面臨的挑戰(zhàn)
。
作 ……

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